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上海檢測儀有限公司
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全自動立式退火爐

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產品用途:
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,主要適用于6"、8"、12"晶圓的合金、退火等工藝。
退火是在中低溫條件下,通入惰性氣體(N2),消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷,優化硅片界面質量的一種工藝。
產品詳情

產品特點:

   1.一體式人機操作系統,連續式自動化生產,工作效率高,節約人工成本、電能及工藝時間;

   2.FEC加熱,升溫迅速且均勻度好;

   3.優質不銹鋼材質,表面經物理及化學拋光處理,確保潔凈度;


技術參數:

TAST2075D112-N

TAST3075D112-N

處理產品

6/8/12inch 晶圓

 處理量 

 100PCS/管 

加熱器

圓形FEC加熱板

上料口

2個 

機械手

1

溫度范圍

長期使用溫度: 1050℃,最高溫度1200

升溫速率

10/min

降溫速率

5/min

爐溫均勻性

±℃(1050℃

加熱溫區

3

溫度控制方式

SSR

程序控制

P.I.D控制

爐膛材料

石英

保溫材料

陶瓷纖維

氣氛控制

多路流量計調節進氣流量計量程0-150L/min  

 氣氛 

 N2 

排氣系統

在頂部設置排氣煙囪,用于廢氣排放,回收


全自動立式退火爐

全自動立式退火爐

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產品用途:
用于IC集成電路、MEMS、電力電子器件、光電子器件等領域,主要適用于6"、8"、12"晶圓的合金、退火等工藝。
退火是在中低溫條件下,通入惰性氣體(N2),消除硅片界面處晶格缺陷和晶格損傷,優化硅片界面質量的一種工藝。
產品詳情

產品特點:

   1.一體式人機操作系統,連續式自動化生產,工作效率高,節約人工成本、電能及工藝時間;

   2.FEC加熱,升溫迅速且均勻度好;

   3.優質不銹鋼材質,表面經物理及化學拋光處理,確保潔凈度;


技術參數:

TAST2075D112-N

TAST3075D112-N

處理產品

6/8/12inch 晶圓

 處理量 

 100PCS/管 

加熱器

圓形FEC加熱板

上料口

2個 

機械手

1

溫度范圍

長期使用溫度: 1050℃,最高溫度1200

升溫速率

10/min

降溫速率

5/min

爐溫均勻性

±℃(1050℃

加熱溫區

3

溫度控制方式

SSR

程序控制

P.I.D控制

爐膛材料

石英

保溫材料

陶瓷纖維

氣氛控制

多路流量計調節進氣流量計量程0-150L/min  

 氣氛 

 N2 

排氣系統

在頂部設置排氣煙囪,用于廢氣排放,回收


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